（单选题）
从离子源引出的是：（）
A原子束
B分子束
C中子束
D离子束
正确答案
答案解析
略
相似试题
（判断题）
离子源是产生离子的装置。（）
（多选题）
按蒸发源加热方法的不同，真空蒸发工艺可分为：（）蒸发、（）蒸发、离子束蒸发等。
（简答题）
假设进行一次受固溶度限制的预淀积扩散，从掺杂玻璃源引入的杂质总剂量为Qcm-2。
（单选题）
恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为（）分布。
（单选题）
离子注入层的深度主要取决于离子注入的（）。
（单选题）
离子注入层的杂质浓度主要取决于离子注入的（）。
（简答题）
下图为直流等离子放电的I-V曲线，请分别写出a-g各段的名称。可用作半导体制造工艺中离子轰击的是其中哪一段？试解释其工作原理。
（单选题）
反应离子腐蚀是（）。
（单选题）
恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为什么分布？（）
