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半导体芯片制造工最新试题

  • (简答题)

    简述RTP设备的工作原理,相对于传统高温炉管它有什么优势?

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  • (多选题)

    硅外延片的应用包括()。

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  • (判断题)

    退火处理能使金丝和硅铝丝的抗断强度下降。()

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  • (简答题)

    粘封工艺中,常用的材料有哪几类?

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  • (简答题)

    典型的GaAsMESFET结构IC的工艺流程?

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  • (简答题)

    下图是硅烷反应淀积多晶硅的过程,写出发生反应的方程式,并简述其中1~5各步的含义。

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  • (单选题)

    从离子源引出的是:()

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  • (简答题)

    单晶片切割的质量要求有哪些?

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  • (填空题)

    半导体材料有两种载流子参加导电,具有两种导电类型。一种是(),另一种是()。

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  • (单选题)

    平行缝焊的工艺参数有焊接电流、焊接速度、焊轮压力和焊轮椎顶角。焊轮压力影响盖板和焊环之间高阻点的()。压力太大,电阻值下降,对形成焊点不利,焊轮压力太小,则造成接触不良,不但形不成良好点。

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  • (单选题)

    属于绝缘体的正确答案是()。

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  • (单选题)

    恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为()分布。

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  • (简答题)

    说明影响氧化速率的因素。

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  • (判断题)

    值称为共发射极电流放大系数,是晶体管的一个重要参数,也是检验晶体管经过硼、砷掺杂后的两个pn结质量优劣的重要标志。()

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  • (简答题)

    简述杂质在SiO2的存在形式及如何调节SiO2的物理性质。

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  • (简答题)

    为什么说洁净技术是半导体芯片制造过程中的一项重要技术?

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  • (简答题)

    简述RTP在集成电路制造中的常见应用。

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  • (判断题)

    钯.银电阻的烧结分预烧结、烧结、降温冷却三个阶段。()

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  • (简答题)

    简述光刻工艺原理及在芯片制造中的重要性?

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  • (判断题)

    抛光片的电学参数包括电阻率,载流子浓度,迁移率,直径、厚度、主参考面等。()

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